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产品介绍：Ionautics 是一家瑞典深度技术公司，专注于 HiPIMS 脉冲电源 高功率脉冲磁控溅射技术，其核心产品 HiPSTER 系列电源覆盖了从 1 kW 到 25 kW 的功率范围，广泛适用于学术研发、工业镀膜、光学涂层、硬质涂层及纳米颗粒合成等领域
Ionautics 是一家瑞典深度技术公司，专注于高功率脉冲磁控溅射技术，其核心产品 HiPSTER 系列电源覆盖了从 1 kW 到 25 kW 的功率范围，广泛适用于学术研发、工业镀膜、光学涂层、硬质涂层及纳米颗粒合成等领域。
产品联系：185 0219 3480，sales@gamtic.com
| 型号 | 平均功率 | 典型适用磁控管尺寸 | 主要定位 |
|---|---|---|---|
| HiPSTER 1 | 1 kW | ≤ 50 cm²（约 3 英寸靶） | 研发、学术入门级 |
| HiPSTER 6 / 6 BiPolar | 6 kW | — | 中功率研发与工业 |
| HiPSTER 10 | 10 kW | ≤ 800 cm² | 工业与研发通用型 |
| HiPSTER 20 | 20 kW | ≤ 1,700 cm² | 大面积工业镀膜 |
| HiPSTER 25 | ≤ 25 kW | 大面积/高功率工业应用 | 高端工业级旗舰 |
| HiPSTER Sync Unit | — | — | 多台电源同步控制 |
平均功率：1 kW
适用磁控管尺寸：高达 50 cm²，或约 3 英寸圆形靶
脉冲频率：HiPIMS 脉冲频率可达 10 kHz（使用新型开关技术）
高压充电输入：1000 V max，全浮动 ±1 kV（对地）
输入电压：单相 + N，100–240 VAC，50/60 Hz
输入电流（230V 时）：0.3 A
运行模式：需连接至现有的直流电源或 Ionautics 定制 HiPSTER 直流单元
双极型号可选：HiPSTER 1 BiPolar 支持双极运行，无需基底偏压即可实现离子加速
外部触发：支持主‑从配置的外部触发
应用：DLC 涂层、ITO 涂层、阻隔涂层、硬质涂层等
平均功率：6 kW
脉冲频率：HiPIMS 脉冲频率可达 10 kHz
放电稳定性：恒定电压，无不需要的振荡
实时监控：可提供放电脉冲电压、电流实时信息
双极型号：HiPSTER 6 BiPolar 支持双极运行，无需基底偏压即可实现离子加速
外部触发：支持多电源外部触发
叠加技术：可叠加 HiPIMS + DC 模式
兼容性：已通过多种磁控管和工艺（包括反应性 HiPIMS）的测试
平均功率：10 kW
适用磁控管尺寸：高达 800 cm²
峰值电压：1000 V
峰值电流：1000 A
脉冲频率：50 Hz – 10 kHz
脉冲宽度：3.5 – 1000 µs
调节模式：支持电压调节、电流调节等多种模式
输入电压：单相 + N，100–240 VAC，50/60 Hz
放电稳定性：恒定电压，无不需要的振荡
实时监控：提供放电脉冲电压、电流实时信息
叠加技术：可叠加 HiPIMS + DC 模式
可选项：可按要求增加反应性 HiPIMS 工艺控制
平均功率：20 kW
适用磁控管尺寸：高达 1,700 cm²，适合处理大面积工艺
定位：面向工业用途和研发部门的高功率 HiPIMS 解决方案
特点：充分利用 HiPIMS 技术优势，在大面积处理时展现优异的性能和效率
平均功率：小于 25 kW（输出功率可调）
核心技术：采用 碳化硅晶体管，解锁更高性能的操作模式
双极运行：支持双极 HiPIMS 技术，无需基底偏压即可实现离子加速
脉冲频率：HiPIMS 脉冲频率可达 150 kHz（全系列最高）
电压/电流/功率调节模式：支持多种调节模式
电弧控制响应时间：脉冲电流电弧控制反应时间 < 2 µs
输入电压：100–240 VAC
远程通信接口：支持 RS‑232、RS‑485 等多种远程通信方式
外部触发：支持多电源外部触发
反应性工艺控制：可增加 Ionautics 的反应性工艺控制，提升稳定性和沉积速率
兼容性：已通过多种磁控管和工艺（包括反应性 HiPIMS）的测试
应用领域：硬质涂层、光学涂层、扩散阻挡层、导电涂层、3D 复杂形状基材均匀覆盖
定位：紧凑型、高性能 HiPIMS 脉冲电源，是 Ionautics 当前旗舰产品
同步模式：
触发方式：
主要应用：
IonMeter 是基于石英晶体微天平技术的原位沉积速率测量设备，主要特征包括：
核心技术：石英晶体微天平，可在工艺过程中实时测量沉积速率
电离率测量：通过对晶体传感器施加偏压，可测量沉积通量中的电离分数
磁屏蔽设计：避免等离子体中电子干扰诊断，同时不影响离子和中性粒子的通过
Ionautics 如需具体型号的详细规格文档，联系我们申请获取。
| 需求场景 | 推荐型号 |
|---|---|
| 实验室研发、小尺寸靶材、低成本入门 | HiPSTER 1（1 kW） |
| 中等功率研发、灵活配置需求 | HiPSTER 6 / 6 BiPolar（6 kW） |
| 工业级通用镀膜、800 cm² 以内磁控管 | HiPSTER 10（10 kW） |
| 大面积工业镀膜、1,700 cm² 以内磁控管 | HiPSTER 20（20 kW） |
| 高端工业镀膜、大功率需求、碳化硅晶体管 | HiPSTER 25（25 kW） |
| 多靶共溅射、多层膜沉积、多电源协同控制 | HiPSTER Sync Unit |
| 沉积速率及电离率原位监控 | IonMeter |
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